詳細介紹

產品介紹

我公司研發(fā)生產的CVD系統(tǒng)集真空管式爐，多通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成,可根據用戶需要設計生產，各款管式爐，氣路系統(tǒng)和真空機組可多種方式組合，真空泵、閥均采用進口產品，性能可靠。控制電路選用模糊PID程控技術，具有控溫精度高，溫沖幅度小，性能可靠，簡單易操作等特點。CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。

產品特點

1.該設備生長溫度更低
2.使用滑軌爐實現快速升溫和降溫，沉積速率快
3.設備輝光均勻等效，均勻生長，成膜質量好
4.支持外部真空規(guī)和壓力變送器
5.支持智能進氣，根據需要設定不同的溫度，自動進氣，進氣定時間到后自動停止進氣
6.支持云端數據存儲，隨時查看數據
7.支持爐膛移動速度調節(jié)
8.支持射頻電源根據外部工況條件自動啟動停止
9.支持壓力恒定，壓力可以設定
10.支持超壓保護，最大壓力值可以設定，超過后系統(tǒng)自動進入保護狀態(tài)


 

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